申请/专利权人：河北工业大学

申请日：2022-12-08

公开（公告）日：2023-05-30

公开（公告）号：CN116179085A

主分类号：C09G1/02

分类号：C09G1/02;C11D1/88;C11D3/33;C11D3/04;C11D3/12;C11D3/32;C11D3/28;C11D3/22;C11D3/34;C11D3/60;B08B3/08;C23F11/14;H01L21/306

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.06.16#实质审查的生效;2023.05.30#公开

摘要：本发明为一种硅通孔钽阻挡层碱性化学机械抛光液。该抛光液的组成包括纳米二氧化硅、钽的络合剂、组氨酸、月桂烷基二羟乙基氧化胺、过氧化氢、去离子水；抛光液pH值为8‑10；其中，各组分所占抛光液的质量百分比分比为：3‑6％的纳米二氧化硅、0.01‑1％的组氨酸与月桂烷基二羟乙基氧化胺复配物、0.5‑1％过氧化氢、1‑3％的钽的络合剂；质量比为，组氨酸：月桂烷基二羟乙基氧化胺＝5：1～10：1。本发明可以有效降低晶圆表面张力，消除晶圆的有机沾污，并且绿色环保，简化抛光液的制备工艺。

主权项：1.一种硅通孔钽阻挡层碱性化学机械抛光液，其特征为该抛光液的组成包括纳米二氧化硅、钽的络合剂、组氨酸、月桂烷基二羟乙基氧化胺、过氧化氢、去离子水；抛光液pH值为8-10；其中，各组分所占抛光液的质量百分比分比为：3-6％的纳米二氧化硅、0.01-1％的组氨酸与月桂烷基二羟乙基氧化胺复配物、0.5-1％过氧化氢、1-3％的钽的络合剂；所述的组氨酸与月桂烷基二羟乙基氧化胺复配物质量比为，组氨酸：月桂烷基二羟乙基氧化胺＝5：1～10：1；钽的络合剂为胍类、胍盐、脒类、脒盐、烷基羟肟酸、有机膦酸中的一种或多种。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 河北工业大学 一种硅通孔钽阻挡层碱性化学机械抛光液

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