申请/专利权人：TCL华星光电技术有限公司

申请日：2022-12-26

公开（公告）日：2023-05-30

公开（公告）号：CN116180082A

主分类号：C23F1/18

分类号：C23F1/18;C23F1/26;C23F1/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.06.16#实质审查的生效;2023.05.30#公开

摘要：本申请提供一种蚀刻液组成物，所述蚀刻液组成物包括过氧化氢、螯合剂、蚀刻剂、蚀刻抑制剂、湿润剂。本申请提供的蚀刻液组成物对氧化物薄膜无损伤，且具有良好的稳定性和蚀刻性，使金属膜形成低taper，进而提升制程良率。

主权项：1.一种蚀刻液组成物，其特征在于，所述蚀刻液组成物包括：过氧化氢、螯合剂、蚀刻剂、蚀刻抑制剂、湿润剂。

全文数据：

权利要求：

百度查询： TCL华星光电技术有限公司 蚀刻液组成物

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