申请/专利权人:海目星激光科技集团股份有限公司
申请日:2022-11-15
公开(公告)日:2023-05-30
公开(公告)号:CN219106115U
主分类号:H01L21/683
分类号:H01L21/683;H01L21/68;H01L21/50
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.05.30#授权
摘要:本实用新型公开了一种固定平台及加工设备。本实用新型的固定平台包括基台、第一承载件和调节装置。其中,第一承载件连接于基台,第一承载件设置有承载面,承载面用于承载基板,承载面上设置有多个吸附孔,吸附孔用于吸附基板。调节装置设置于基台与第一承载件之间,调节装置包括活动件和调节件,活动件连接于第一承载件,调节件能够驱动活动件移动以使第一承载件的至少部分靠近或远离调节件,调节装置用于调节承载面的平面度。基板能够被承载面设置的吸附孔吸附于承载面后,通过调节装置的调节件来驱动活动件移动,以调平基板,从而使载板上的芯片在贴合于基板时贴合紧密,能够使芯片正确焊接于基板,保证产品的加工质量。
主权项:1.一种固定平台,用于固定基板,其特征在于,包括:基台;第一承载件,连接于所述基台,所述第一承载件设置有承载面,所述承载面用于承载所述基板,所述承载面上设置有多个吸附孔,所述吸附孔用于吸附所述基板;调节装置,设置于所述基台与所述第一承载件之间,所述调节装置包括活动件和调节件,所述活动件连接于第一承载件,所述调节件能够驱动所述活动件移动以使所述第一承载件靠近或远离所述调节件,所述调节装置用于调节所述承载面的平面度。
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权利要求:
百度查询: 海目星激光科技集团股份有限公司 固定平台及加工设备
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