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龙图腾网恭喜浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司申请的专利外延片电阻值测量预处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119742253B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510249384.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权外延片电阻值测量预处理装置是由徐新华设计研发完成，并于2025-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本外延片电阻值测量预处理装置在说明书摘要公布了：本发明涉及外延片生产设备技术领域，公开了一种外延片电阻值测量预处理装置，包括主体，所述主体的顶部依次开设有一级清洗池、二级清洗池和三级清洗池，还包括：放置架，放置架包括：架体；放置槽；流体通道；清洗辊，其呈空心圆管状，所述清洗辊转动设置于所述架体，清洗辊两端连通至流体通道，两个清洗辊相对镜像设置于架体下部两侧；桨叶，其固定设置于所述清洗辊端部；喷洗孔，其均匀开设于所述清洗辊中部；压紧组件，使外延片抵至清洗辊；泵，其设置于所述三级清洗池的一侧。本发明能解决或至少减轻现有外延片表面预处理装置易使外延片表面出现划痕且附着的细微颗粒较多的问题，提供外延片电阻值测量预处理装置。

本发明授权外延片电阻值测量预处理装置在权利要求书中公布了：1.一种外延片电阻值测量预处理装置，包括主体（1），所述主体（1）的顶部依次开设有一级清洗池（2）、二级清洗池（3）和三级清洗池（4），其特征在于，还包括：放置架（5），其用于收纳放置多个外延片（6），并通过机械臂将放置架（5）依次放入一级清洗池（2）、二级清洗池（3）和三级清洗池（4）内进行清洗，所述放置架（5）包括：架体（501）；放置槽（502），其均匀开设于所述架体（501）的中部；流体通道（503），其开设于所述架体（501）的内部，且一端贯穿至所述架体（501）的底端，另一端向上延伸至所述架体（501）的顶端；清洗辊（504），其呈空心圆管状，所述清洗辊（504）转动设置于所述架体（501），清洗辊（504）两端连通至流体通道（503），两个清洗辊（504）相对镜像设置于架体（501）下部两侧，清洗辊（504）对放入架体（501）内的外延片（6）底部进行支撑；桨叶（505），其固定设置于所述清洗辊（504）端部，流体通道（503）内的流体进入清洗辊（504）时，通过桨叶（505）带动清洗辊（504）转动，清洗辊（504）转动时带动架体（501）内的外延片（6）转动；喷洗孔（506），其均匀开设于所述清洗辊（504）中部，所述喷洗孔（506）与所述放置槽（502）一一交错设置，喷洗孔（506）的喷射方向朝向其对应的放置槽（502）内的外延片（6）侧面；压紧组件（9），其转动设置于所述放置架（5）的顶部两侧，所述压紧组件（9）将外延片（6）限制在所述放置架（5）的内部，使外延片（6）抵至清洗辊（504）；供流通道（10），其布设于所述主体（1）内且位于三级清洗池（4）下方，放置架（5）位于三级清洗池（4）底面时，所述供流通道（10）与流体通道（503）连通；导流通道（11），其布设于所述主体（1）内且位于三级清洗池（4）侧面；泵（12），其设置于所述三级清洗池（4）的一侧，所述泵（12）的出口端连通至所述供流通道（10），泵（12）的进口端通过所述导流通道（11）连通至三级清洗池（4）内，泵（12）将三级清洗池（4）内的液体通过供流通道（10）和流体通道（503）供应至清洗辊（504）；还包括干燥组件（7），所述干燥组件（7）包括：热氮气源（701），其连通至所述供流通道（10）；异丙醇蒸汽源（702），其连通至所述泵（12）的进口端；导气管（703），其纵向设置于所述三级清洗池（4）内上部，所述导气管（703）上端连通至所述异丙醇蒸汽源（702）；升降导块（704），其内设置有导气孔（705），所述导气孔（705）上部密封滑动套设于导气管（703）下部，导气孔（705）下端对应于所述导流通道（11）；浮块（706），其固定设置于升降导块（704），所述浮块（706）为升降导块（704）提供浮力，使升降导块（704）随第三清洗池内的液面升降。

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