恭喜戴蒙得创新股份有限公司艾达莫西·达利斯获国家专利权
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龙图腾网恭喜戴蒙得创新股份有限公司申请的专利具有高度腐蚀的粒子表面和高韧性指数的立方氮化硼粒子群获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112739645B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980059758.3，技术领域涉及：C01B21/064；该发明授权具有高度腐蚀的粒子表面和高韧性指数的立方氮化硼粒子群是由艾达莫西·达利斯;蒂莫西·达姆;张凯设计研发完成，并于2019-09-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有高度腐蚀的粒子表面和高韧性指数的立方氮化硼粒子群在说明书摘要公布了：通过将反应性金属粉末与多个立方氮化硼粒子共混以形成共混的混合物，制造具有高度腐蚀的表面和高韧性指数的立方氮化硼粒子群。将所述共混的混合物压缩以形成压缩混合物。使所述压缩混合物经受温度和压力，其中控制温度以通过使立方氮化硼与所述反应性金属粉末反应来引起所述多个立方氮化硼粒子的腐蚀，从而形成多个腐蚀的立方氮化硼粒子。此外，控制温度和压力以使氮化硼保持为立方氮化硼相。其后，从所述压缩混合物回收所述多个腐蚀的立方氮化硼粒子以形成所述粒子群。优选地，所述粒子群不包含六方氮化硼。
本发明授权具有高度腐蚀的粒子表面和高韧性指数的立方氮化硼粒子群在权利要求书中公布了：1.多个腐蚀的单晶立方氮化硼粒子，包含：在1300℃以上的温度和3吉帕斯卡的压力下腐蚀的压缩共混的混合物，所述压缩共混的混合物包含20重量％至90重量％的反应性锆粉末，以及10重量％至80重量％的多个单晶立方氮化硼粒子，一个以上所述腐蚀的单晶立方氮化硼粒子各自具有多个蚀坑和多个凹槽，其中所述多个蚀坑各自的宽度为500nm～1.5μm，并且深度为100nm～1μm，其中所述多个凹槽各自的长度为5μm～30μm，并且深度为100nm～1μm，腐蚀的单晶粒子群具有积极腐蚀的表面，所述表面具有均匀的亚微米表面图案和高韧性指数，所述腐蚀的粒子群的韧性指数比具有相同化学组成和晶体结构的未腐蚀、非粗糙的立方氮化硼粒子群低10分～20分，并且其中所述腐蚀的粒子群不含有六方氮化硼。
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