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龙图腾网恭喜研能科技股份有限公司申请的专利微流体致动器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111217316B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201811404394.1，技术领域涉及：B81B3/00；该发明授权微流体致动器是由莫皓然;余荣侯;张正明;戴贤忠;廖文雄;黄启峰;韩永隆;陈宣恺设计研发完成，并于2018-11-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本微流体致动器在说明书摘要公布了：一种微流体致动器，包含一基板、一腔体层、一振动层、一下电极层、一上电极层、一孔板层及一流道层。基板通过蚀刻制程形成一出流孔洞、多个第一进流孔洞以及一第二进流孔洞。腔体层形成于基板上，并通过蚀刻制程形成一储流腔室。振动层形成于腔体层上。下电极层形成于振动层上。压电致动层形成于下电极层上。上电极层形成于压电致动层上。孔板层通过蚀刻制程形成一出流口以及一进流口。流道层形成于孔板层之上，通过光刻制程形成一出流通道及一进流通道，并接合于基板。提供驱动电源至上电极层及下电极层，以驱动并控制振动层产生上下位移，以完成流体传输。

本发明授权微流体致动器在权利要求书中公布了：1.一种微流体致动器，其特征在于，包含：一基板，具有一第一表面及一第二表面，通过蚀刻制程形成一出口沟槽、一进口沟槽、一出流孔洞、多个第一进流孔洞以及一第二进流孔洞，该出口沟槽与该出流孔洞相连通，该进口沟槽与该多个第一进流孔洞以及该第二进流孔洞相连通；一腔体层，通过沉积制程形成于该基板的该第一表面上，且通过蚀刻制程形成一储流腔室，该储流腔室与该出流孔洞、该多个第一进流孔洞以及该第二进流孔洞相连通；一振动层，通过沉积制程形成于该腔体层上；一下电极层，通过沉积制程及蚀刻制程形成于该振动层上；一压电致动层，通过沉积制程及蚀刻制程形成于该下电极层上；一上电极层，通过沉积制程及蚀刻制程形成于该压电致动层上；一孔板层，通过蚀刻制程形成一出流口以及一进流口；以及一流道层，通过一干膜材料滚压制程形成于该孔板层之上，通过光刻制程形成一出流通道、一进流通道以及多个柱状结构，通过覆晶对位制程与热压制程接合于该基板的该第二表面，该孔板层的该出流口借由该出流通道与该基板的该出口沟槽相连通，该孔板层的该进流口借由该进流通道与该基板的该进口沟槽相连通；其中，提供具有不同相位电荷的驱动电源至该上电极层以及该下电极层，以驱动并控制该振动层产生上下位移，使流体自该进流口吸入，通过该多个第一进流孔洞以及该第二进流孔洞流至该储流腔室，最后受挤压经由该出流孔洞后自该出流口排出以完成流体传输。

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