恭喜信越化学工业株式会社中原贵佳获国家专利权
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龙图腾网恭喜信越化学工业株式会社申请的专利密合膜形成材料、使用其的密合膜的形成方法、及使用了密合膜形成材料的图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115586699B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210791887.5，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权密合膜形成材料、使用其的密合膜的形成方法、及使用了密合膜形成材料的图案形成方法是由中原贵佳;美谷岛祐介;原田裕次;荻原勤设计研发完成，并于2022-07-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本密合膜形成材料、使用其的密合膜的形成方法、及使用了密合膜形成材料的图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明涉及密合膜形成材料、使用其的密合膜的形成方法、及使用了密合膜形成材料的图案形成方法。本发明的问题为提供一种在利用半导体装置制造步骤中的多层抗蚀剂法所为的微细图案化制程中，供予具有和抗蚀剂上层膜的高密合性，且具有抑制微细图案崩塌的效果同时可形成良好的图案形状的密合膜的密合膜形成材料、使用了该材料的图案形成方法、及该密合膜的形成方法。该问题的解决手段为一种密合膜形成材料，是形成于含硅的中间膜和抗蚀剂上层膜之间的密合膜的密合膜形成材料，其特征在于含有：A具有下述通式1表示的结构单元的树脂，B含有一种以上的下述通式2表示的化合物的交联剂，C光酸产生剂，及D有机溶剂。
本发明授权密合膜形成材料、使用其的密合膜的形成方法、及使用了密合膜形成材料的图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种密合膜形成材料，是形成于含硅的中间膜和抗蚀剂上层膜之间的密合膜的密合膜形成材料，其特征为该密合膜形成材料含有：A具有下述通式1表示的结构单元的树脂，B含有一种以上的下述通式2表示的化合物的交联剂，C光酸产生剂，及D有机溶剂； 式中，R01为氢原子或甲基，R02为碳数1～3的烷基，m表示1或2的整数，n表示0～4的整数，m+n为1以上且5以下的整数；X表示-C＝OO-； 式中，Q为单键或碳数1～20的q价烃基；R03为氢原子或甲基；q为1～5的整数。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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