浙江大学杭州国际科创中心王依获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大学杭州国际科创中心申请的专利光刻污染物的处理方法、设备及光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119065198B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411569858.X，技术领域涉及：G03F1/82；该发明授权光刻污染物的处理方法、设备及光刻机是由王依;刘天棋;徐月暑;高金铭;包宜骏;匡翠方设计研发完成，并于2024-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻污染物的处理方法、设备及光刻机在说明书摘要公布了：本申请公开了光刻掩模版、光刻污染物的处理方法、设备及光刻机，光刻掩模版包括光刻掩模基板及碱性的氮氧化钛催化层。方法包括提供真空腔室和有氢化金属性污染物的光刻掩模版，通入酸性的含氧清洗气体；提供UV光，激发氮氧化钛催化层的光催化活性，使清洗气体产生活性氧原子与氢化金属性污染物反应，产生挥发性气态化合物；将挥发性气态化合物排出。设备用于对光刻掩模版进行氢化金属性污染物的处理，设备包括箱体、真空泵、UV光源以及清洗气体源。碱性的氮氧化钛催化层便于酸性的含氧清洗气体与氮氧化钛催化层相互作用，进一步促进化学反应发生以及进一步提升清洗效果。同时解决了金属氧化物型光刻胶氢化作用产生的金属污染问题。
本发明授权光刻污染物的处理方法、设备及光刻机在权利要求书中公布了：1.一种光刻污染物的处理方法，其特征在于，包括如下步骤：提供真空腔室，所述真空腔室内设置有光刻掩模版，所述光刻掩模版表面沉积有光刻工艺形成的光刻污染物，形成所述光刻污染物的光刻胶为金属纳米颗粒光刻胶，所述光刻污染物包括光刻产生的氢化金属性污染物，所述光刻掩模版具有氮氧化钛催化层，所述氮氧化钛催化层的表面属性为碱性；向所述真空腔室内持续通入酸性的含氧清洗气体，所述含氧清洗气体为二氧化碳清洗气体，氮氧化钛催化层表面吸附二氧化碳，并与二氧化碳相互作用；提供UV光，所述UV光用于照射所述光刻掩模版的氮氧化钛催化层，并激发出所述氮氧化钛催化层的光催化活性，以使酸性的含氧清洗气体产生活性氧原子，所述活性氧原子用于与所述氢化金属性污染物反应，产生挥发性气态化合物的挥发性气态化合物；将所述挥发性气态化合物排出真空腔室。
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