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龙图腾网获悉朗姆研究公司申请的专利用于基于UV抑制等离子体不稳定性的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112599406B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011189122.1，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权用于基于UV抑制等离子体不稳定性的系统和方法是由尚卡·斯瓦米纳森设计研发完成，并于2017-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于基于UV抑制等离子体不稳定性的系统和方法在说明书摘要公布了：本发明涉及用于基于UV抑制等离子体不稳定性的系统和方法。将衬底定位成暴露于等离子体处理室内的等离子体产生区域。在所述等离子体产生区域内产生第一等离子体。所述第一等离子体被配置为致使膜沉积在所述衬底上直到沉积在所述衬底上的所述膜达到阈值膜厚度。然后所述衬底暴露于紫外辐射以消除沉积在所述衬底上的所述膜内的缺陷。可以使用构造成产生紫外线辐射的第二等离子体或者使用设置成暴露于等离子体产生区域中的紫外辐射设备来原位提供紫外线辐射。也可以通过将衬底移动到与等离子体处理室分离的紫外辐射设备来非原位地提供紫外辐射。可以以重复的方式将衬底暴露于紫外辐射，以便在膜厚度增加时消除沉积的膜内的缺陷。

本发明授权用于基于UV抑制等离子体不稳定性的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于在基于等离子体的膜沉积工艺期间原位处理膜表面缺陷的装置，其包括：衬底支撑件，其具有被配置为在等离子体处理操作期间支撑衬底以在所述衬底上沉积膜的顶表面；电极，其被设置为将射频功率传输到覆盖所述衬底支撑件的等离子体产生区域内；工艺气体输送部件，其被配置成将工艺气体输送到所述等离子体产生区域；排放出口，其被配置成从所述等离子体产生区域排出气体；和紫外辐射设备，其被设置为沿朝向所述衬底支撑件的顶表面的方向传输紫外辐射穿过所述等离子体产生区域；控制系统，其被配置为引导在所述等离子体产生区域内的所述等离子体的产生，并且引导所述紫外辐射设备的操作，使得在所述等离子体产生区域内所述等离子体的产生和紫外线辐射穿过所述等离子体产生区域的传输以连续的方式进行，而不用将所述衬底从所述衬底支撑件的所述顶表面移动，其中，所述控制系统被配置为引导在所述等离子体产生区域内产生所述等离子体，直到沉积在所述衬底上的所述膜达到阈值膜厚度为止，其中，所述控制系统被配置为在所述膜达到所述阈值膜厚度时指导膜缺陷消除操作的执行，所述膜缺陷消除操作包括操作所述紫外辐射设备向所述衬底上的所述膜传输紫外线辐射，使得所述紫外线辐射在所述衬底上引起反应，以消除所述衬底上的所述膜内的缺陷，其中，所述控制系统被配置为在完成所述膜缺陷消除操作之后引导在所述等离子体产生区域内进一步产生所述等离子体，直到在沉积在所述衬底上的所述膜的区间厚度达到所述阈值膜厚度为止，所述膜的所述区间厚度对应于自从最近完成所述膜缺陷消除操作以来所沉积的所述膜的厚度，其中所述控制系统被配置为以连续的方式引导重复所述膜缺陷消除操作和在所述等离子体产生区域内所述等离子体的所述进一步产生，直到沉积在所述衬底上的所述膜达到固定的膜厚度为止。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人朗姆研究公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。