申请/专利权人：天津津荣天宇精密机械股份有限公司

申请日：2019-05-29

公开（公告）日：2020-07-03

公开（公告）号：CN210907682U

主分类号：B21D37/10(20060101)

分类号：B21D37/10(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.07.03#授权

摘要：本实用新型公开了一种应用于硬料向上刻印的结构，包括凸模和刻印件，所述凸模上具有凹槽，所述刻印件镶嵌入所述凸模的凹槽内。该结构能够使冲型和刻印同步完成，提高了加工的效率，同时单独制作刻印件防止刻印形状单薄时发生刻印件脆弱、易损的情况。

主权项：1.一种应用于硬料向上刻印的结构，其特征在于：包括凸模1和刻印件4，所述凸模1上具有凹槽，所述刻印件4镶嵌入所述凸模1的凹槽内，所述刻印件4包括刻印主体4-3、刻印头4-2和卡块4-1，所述刻印主体4-3的一端设置有刻印头4-2，所述刻印主体4-3上远离所述刻印头4-2的一端设置有卡块4-1；所述凹槽包括通槽1-2和限位槽1-1，所述刻印主体4-3和所述刻印头4-2穿过所述通槽1-2，所述限位槽1-1设置在所述凸模1的底部，所述限位槽1-1与所述卡块4-1配合卡装，所述卡块4-1和所述限位槽1-1用于固定所述刻印件4和凸模1。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 天津津荣天宇精密机械股份有限公司 一种应用于硬料向上刻印的结构

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