申请/专利权人：苏州科阳半导体有限公司

申请日：2020-12-31

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN112711173A

主分类号：G03F1/38(20120101)

分类号：G03F1/38(20120101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.05.14#实质审查的生效;2021.04.27#公开

摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，公开了一种光罩，用于在刻蚀槽处光刻形成金属重布线，刻蚀槽包括处于槽顶部的上拐角和处于槽底部的下拐角，刻蚀槽沿水平面上的第一方向延伸。光罩包括透明基板和阻光图形。阻光图形设置在透明基板上，阻光图形能够阻挡激光束或紫外光穿过透明基板，阻光图形包括沿水平面上第二方向延伸的第一阻光区，第一方向与第二方向相垂直，第一阻光区上设有加宽部和内凹部，加宽部凸设在第一阻光区的边缘处，内凹部凹设在第一阻光区的边缘处，且加宽部在刻蚀槽上的投影在上拐角处，内凹部在刻蚀槽上的投影在下拐角处。本发明降低了重布线在刻蚀槽处发生短路或断路的可能性，保证了重布线的功能，提高了产品的合格率。

主权项：1.一种光罩，用于在刻蚀槽100处光刻形成金属重布线，所述刻蚀槽100包括处于槽顶部的上拐角101和处于槽底部的下拐角102，所述刻蚀槽100沿水平面上的第一方向延伸，其特征在于，包括：透明基板1；阻光图形，设置在所述透明基板1上，所述阻光图形能够阻挡激光束或紫外光穿过所述透明基板1，所述阻光图形包括沿水平面上第二方向延伸的第一阻光区2，所述第一方向与所述第二方向相垂直，所述第一阻光区2上设有加宽部21和内凹部22，所述加宽部21凸设在所述第一阻光区2的边缘处，所述内凹部22凹设在所述第一阻光区2的边缘处，且所述加宽部21在所述刻蚀槽100上的投影位于所述上拐角101处，所述内凹部22在所述刻蚀槽100上的投影位于所述下拐角102处。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州科阳半导体有限公司 一种光罩

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