申请/专利权人：复旦大学

申请日：2021-01-17

公开（公告）日：2021-06-01

公开（公告）号：CN112885499A

主分类号：G21K1/06(20060101)

分类号：G21K1/06(20060101);G03F7/20(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态：2023.03.10#发明专利申请公布后的视为撤回;2021.06.18#实质审查的生效;2021.06.01#公开

摘要：本发明属于电子束光刻技术领域，具体为用于同步辐射软X射线聚焦成像的Kinoform介质透镜及其制备方法。本发明的Kinoform介质透镜结构包括硅基底、薄膜窗口、具有斜面形貌的二维或者三维的介质材料Kinoform透镜；制备步骤包括：在薄膜衬底上旋涂光刻胶，利用电子束灰度光刻技术在光刻胶上曝光形成Kinoform透镜的设计图形，最后显影得到Kinoform透镜。本发明方法可用于制备一类具有类似于锯齿波带结构的X射线聚焦成像透镜，即圆形Kinoform平板透镜，实现对软X射线的高效率聚焦和成像；具有工艺稳定可靠、制备周期缩短和与现有的光刻工艺兼容等优点。制备的透镜适合于对生物细胞、有机材料和介质材料等的X射线高衬度三维成像。

主权项：1.一种用于同步辐射软X射线聚焦成像的Kinoform介质透镜，其特征在于，其结构从下到上依次为：硅基底，薄膜窗口，具有斜面形貌的二维或者三维的介质材料Kinoform透镜；其中，硅基底、薄膜窗口分别起支撑和透光作用，介质材料Kinoform透镜正面放置在薄膜上；所述透镜的汇聚方向垂直于薄膜窗口；软X射线透过薄膜与透镜之后聚焦；低吸收系数的介质材料的kinoform结构能够实现软X射线的高效率聚焦。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 复旦大学 用于同步辐射软X射线聚焦成像的Kinoform介质透镜及其制备方法

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