申请/专利权人：中微半导体设备(上海)股份有限公司

申请日：2021-03-25

公开（公告）日：2021-09-17

公开（公告）号：CN214226885U

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101);H01J37/32(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.09.17#授权

摘要：一种预清洁反应器，包括：反应腔体，腔体顶部包括一等离子产生装置，以及位于等离子产生装置下方的气体扩散板，使得等离子产生装置中产生的等离子体流经所述气体扩散板后熄灭，并向下到达待处理晶圆；反应腔内底部包括一基座用于承载待处理晶圆，所述基座包括冷却液通道、位于冷却液通道上方的加热器和加热器上方的热传导空间；还包括一冷却液供应系统用于供应冷却液到所述基座中的冷却液通道，其中冷却液供应系统包括一冷却液源、多根流通管道和一阀门组，所述阀门组选择性的使所述冷却液流入基座或者经过所述至少一根流通管道回流到冷却液源。

主权项：1.一种预清洁反应器，包括：反应腔体，反应腔内底部包括一基座用于承载待处理晶圆，所述基座包括冷却液通道、位于冷却液通道上方的加热器和加热器上方的热传导空间；腔体顶部包括一等离子产生装置，以及位于等离子产生装置下方的气体扩散板，等离子产生装置使得反应气体点燃并形成等离子体，所述反应气体流经所述气体扩散板后熄灭，并向下到达待处理晶圆；还包括一冷却液供应系统用于供应冷却液到所述基座中的冷却液通道，其中冷却液供应系统包括一冷却液源、多根流通管道和至少一阀门组，所述阀门组选择性的使所述冷却液流入基座或者经过至少一根流通管道回流到冷却液源。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中微半导体设备(上海)股份有限公司 一种预清洁反应器

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