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【实用新型】样品制备系统_赛默飞世尔(上海)仪器有限公司_202222312885.1 

申请/专利权人:赛默飞世尔(上海)仪器有限公司

申请日:2022-08-31

公开(公告)日:2023-03-14

公开(公告)号:CN218629175U

主分类号:G01N1/28

分类号:G01N1/28

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.03.14#授权

摘要:本实用新型提供一种样品制备系统,包括:多个并行的萃取通道;气体供应单元,用于将气体供应到各个样品池,气体供应单元包括:第一供应管路;从第一供应管路分出的多个并行的第二供应管路,每个第二供应管路可以流体连通到对应的一个萃取通道,沿气体的流动方向看,第二供应管路位于第一供应管路与萃取通道之间;第一流量控制装置,布置在第一供应管路上,以控制供应给多个萃取通道的气体的总流量;多个第二流量限制装置,每个第二流量限制装置可以布置在对应的一个第二供应管路上,且包括阻力提供结构,其构造成使得流入各个萃取通道的气体流量之间的差值小于预定阈值。借助该样品制备系统,可以使得气体以均匀的流量流入各个萃取通道。

主权项:1.一种样品制备系统,其特征在于,所述样品制备系统包括:多个并行的萃取通道,每个萃取通道包括用于放置样品的样品池;气体供应单元,用于将气体供应到各个样品池,所述气体供应单元包括:第一供应管路;从所述第一供应管路分出的多个并行的第二供应管路,每个第二供应管路流体连通到对应的一个萃取通道,沿所述气体的流动方向看,所述第二供应管路位于所述第一供应管路与所述萃取通道之间;第一流量控制装置,布置在所述第一供应管路上,以控制供应给多个萃取通道的气体的总流量;多个第二流量限制装置,每个第二流量限制装置布置在对应的一个第二供应管路上,所述第二流量限制装置包括阻力提供结构,所述阻力提供结构构造成使得流入各个萃取通道的气体流量之间的差值小于预定阈值。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 赛默飞世尔(上海)仪器有限公司 样品制备系统

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