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【发明公布】一种溅镀用IZO掺杂靶材及其制备方法_先导薄膜材料(广东)有限公司_202211626321.3 

申请/专利权人:先导薄膜材料(广东)有限公司

申请日:2022-12-15

公开(公告)日:2023-05-02

公开(公告)号:CN116041047A

主分类号:C04B35/01

分类号:C04B35/01;C04B35/622;C23C14/35;C23C14/08

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.05.19#实质审查的生效;2023.05.02#公开

摘要:本发明属于半导体材料制备技术领域,公开了一种溅镀用IZO掺杂靶材及其制备方法。所述IZO掺杂靶材由氧化铟、氧化锌和掺杂氧化物组成;所述IZO掺杂靶材中Zn与In的原子比为ZnZn+In=0.1%~7%;所述掺杂氧化物为氧化钽、氧化铈、氧化钛、氧化锗或氧化镓。所述制备方法为:将氧化铟粉末、氧化锌粉末、掺杂氧化物粉末与水、分散剂和粘结剂混合制浆,得到浆料;将所得浆料进行喷雾造粒,得到造粒粉末,然后经过干压和冷等静压后,进行常压烧结,得到所述溅镀用IZO掺杂靶材。本发明IZO掺杂靶材具有较低的ZnO加入量,且掺杂元素具有更多的选择,同时能够达到较高的致密度和导电性。

主权项:1.一种溅镀用IZO掺杂靶材,其特征在于,由氧化铟、氧化锌和掺杂氧化物组成;所述IZO掺杂靶材中Zn与In的原子比为ZnZn+In=0.1%~7%;所述掺杂氧化物为氧化钽、氧化铈、氧化钛、氧化锗或氧化镓。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 先导薄膜材料(广东)有限公司 一种溅镀用IZO掺杂靶材及其制备方法

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