申请/专利权人：上海芯刻微材料技术有限责任公司

申请日：2021-11-05

公开（公告）日：2023-05-09

公开（公告）号：CN116088268A

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2023.05.09#公开

摘要：本发明公开了一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶的应用。该应用涉及一种形成光刻图案的方法，其包括如下步骤：S1：将光刻胶组合物涂覆于基材表面，并进行烘培，形成光刻胶层；S2：将S1形成的光刻胶层进行曝光；S3：将S2曝光后的光刻胶层进行烘培；S4：将S3烘培后的光刻胶层进行显影；所述光刻胶组合物包括树脂，该树脂为由式A所示的单体、式B所示的单体、式C所示的单体和式D所示的单体聚合得到的共聚物。包含本发明树脂的光刻胶用于形成光刻图案时至少具有以下优势：感光性优异，聚焦深度DOF好以及线宽均匀性CDU好。

主权项：1.一种形成光刻图案的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：S1：将光刻胶组合物涂覆于基材表面，并进行烘培，形成光刻胶层；S2：将S1形成的光刻胶层进行曝光；S3：将S2曝光后的光刻胶层进行烘培；S4：将S3烘培后的光刻胶层进行显影；所述光刻胶组合物包括树脂、光酸产生剂和溶剂，所述树脂为由式A所示的单体、式B所示的单体、式C所示的单体和式D所示的单体聚合得到的共聚物；其中，以重量份数计，所述式A所示的单体的重量份数为42.5-47.5份，所述式B所示的单体的重量份数为1-7.5份，所述式C所示的单体的重量份数为0.25-2.5份，所述式D所示的单体的重量份数为0.25-2.5份； 其中，R1为C1-C10烷基，R2为H或甲基。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海芯刻微材料技术有限责任公司 一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶的应用

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