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【发明公布】一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶的应用_上海芯刻微材料技术有限责任公司_202111305913.0 

申请/专利权人:上海芯刻微材料技术有限责任公司

申请日:2021-11-05

公开(公告)日:2023-05-09

公开(公告)号:CN116088268A

主分类号:G03F7/004

分类号:G03F7/004

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.05.23#实质审查的生效;2023.05.09#公开

摘要:本发明公开了一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶的应用。该应用涉及一种形成光刻图案的方法,其包括如下步骤:S1:将光刻胶组合物涂覆于基材表面,并进行烘培,形成光刻胶层;S2:将S1形成的光刻胶层进行曝光;S3:将S2曝光后的光刻胶层进行烘培;S4:将S3烘培后的光刻胶层进行显影;所述光刻胶组合物包括树脂,该树脂为由式A所示的单体、式B所示的单体、式C所示的单体和式D所示的单体聚合得到的共聚物。包含本发明树脂的光刻胶用于形成光刻图案时至少具有以下优势:感光性优异,聚焦深度DOF好以及线宽均匀性CDU好。

主权项:1.一种形成光刻图案的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:S1:将光刻胶组合物涂覆于基材表面,并进行烘培,形成光刻胶层;S2:将S1形成的光刻胶层进行曝光;S3:将S2曝光后的光刻胶层进行烘培;S4:将S3烘培后的光刻胶层进行显影;所述光刻胶组合物包括树脂、光酸产生剂和溶剂,所述树脂为由式A所示的单体、式B所示的单体、式C所示的单体和式D所示的单体聚合得到的共聚物;其中,以重量份数计,所述式A所示的单体的重量份数为42.5-47.5份,所述式B所示的单体的重量份数为1-7.5份,所述式C所示的单体的重量份数为0.25-2.5份,所述式D所示的单体的重量份数为0.25-2.5份; 其中,R1为C1-C10烷基,R2为H或甲基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海芯刻微材料技术有限责任公司 一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶的应用

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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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