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用于自母模复制可挠性印模的组合件 

申请/专利权人:莫福托尼克斯控股有限公司

申请日:2021-06-30

公开(公告)日:2023-05-16

公开(公告)号:CN116134377A

主分类号:G03F7/00

分类号:G03F7/00

优先权:["20200731 EP 20188862.5"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.07.14#实质审查的生效;2023.05.16#公开

摘要:公开一种组合件,其包含用于微结构及纳米结构的压印的母模,该母模在其上表面上具有有效区域,该有效区域具有用于微结构及纳米结构的压印的浮凸结构,其中该母模具有厚度dmaster,该组合件还包含框架件,所述框架件环绕母模的外周边配置且沿着外周边齐平,使所述框架件具有厚度dframe,其中所述框架件的厚度dframe与母模的厚度dmaster偏差最多250μm。此外,本申请还涉及具有改进的对齐的可挠性印模。

主权项:1.一种包含用于压印微结构及纳米结构的母模的组合件,所述母模配置在基板载体上且在其上表面上具有有效区域,所述有效区域具有用于所述微结构及纳米结构的压印的浮凸结构,其中所述母模具有厚度dmaster,所述组合件进一步包含一组框架件,所述框架件安装在所述基板载体上并环绕所述母模的外周边配置且沿着所述外周边齐平,其中所述框架件具有厚度dframe,其中所述框架件的厚度dframe与所述母模的厚度dmaster偏差最多250μm。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 莫福托尼克斯控股有限公司 用于自母模复制可挠性印模的组合件

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