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申请/专利权人：ASM IP私人控股有限公司
摘要：提供了一种选择性地在具有第一和第二表面的基板上沉积材料的方法，其中所述第一表面不同于所述第二表面。在基板上沉积材料包括：向基板供给包含金属原子、卤素原子和至少一种不是金属或卤素原子的另外的原子的本体前体；和向基板供给反应物。本体前体和反应物相对于第二表面与第一表面具有反应以在第一表面上形成比在第二表面上更多的材料。
主权项：1.一种选择性地在基板上沉积材料的方法，所述方法包括：提供具有第一表面和第二表面的基板，所述第一表面不同于所述第二表面；通过以下方式在所述基板上沉积所述材料：供给包含金属原子、卤素原子和至少一种硫族原子的本体前体；以及向所述基板供给反应物，由此所述本体前体和所述反应物相对于所述第二表面与所述第一表面具有反应以在所述第一表面上形成比在所述第二表面上更多的材料。
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权利要求：
百度查询： ASM IP私人控股有限公司 沉积方法
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