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【发明公布】一种基于边模式实现Fano共振的结构_北京化工大学_202310544841.8 

申请/专利权人:北京化工大学

申请日:2023-05-15

公开(公告)日:2023-07-25

公开(公告)号:CN116482801A

主分类号:G02B6/122

分类号:G02B6/122

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.08.11#实质审查的生效;2023.07.25#公开

摘要:本发明提供一种基于边模式实现Fano共振的结构,所述Fano共振的结构包括金属层,金属层内形成有输入通道、输出通道以及谐振腔;谐振腔为对称结构,且位于金属层内的中心位置;谐振腔分别与输入通道和输出通道直接耦合,输入通道连通于谐振腔的一侧,输出通道连通于谐振腔的另一侧,并且输入通道和输出通道位于同一直线上;输入通道和输出通道内填充有空气,谐振腔内填充有折射材料;共振系统的入射光能够穿过输入通道,并激发谐振腔内的边模式,从而获得Fano线型;本发明提供的基于边模式实现Fano共振的结构,进一步丰富了基于MIM波导实现Fano共振现象的方法,简化了实现Fano线型的结构体系,能够为多功能微纳光学器件的小型化和集成化发展提供新思路。

主权项:1.一种基于边模式实现Fano共振的结构,其特征在于,所述Fano共振的结构包括金属层5,所述金属层5内形成有输入通道1、输出通道2以及谐振腔3;所述谐振腔3为对称结构,且位于所述金属层5内的中心位置;所述谐振腔3分别与所述输入通道1和所述输出通道2直接耦合,所述输入通道1连通于所述谐振腔3的一侧,所述输出通道2连通于所述谐振腔3的另一侧,并且所述输入通道1和所述输出通道2位于同一直线上;所述输入通道1和所述输出通道2内填充有空气,所述谐振腔3内填充有折射材料4;共振系统的入射光能够穿过所述输入通道1,并激发所述谐振腔3内的边模式,从而获得Fano线型。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京化工大学 一种基于边模式实现Fano共振的结构

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