申请/专利权人：上海艾深斯科技有限公司

申请日：2022-01-18

公开（公告）日：2023-07-28

公开（公告）号：CN116500863A

主分类号：G03F7/075

分类号：G03F7/075;G03F7/09;G03F7/11

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.08.15#实质审查的生效;2023.07.28#公开

摘要：新的组合物包含抗反射涂层ARC和硬掩模HM的组合物的硅氧烷共聚物，硅氧烷共聚物由以下单体的共水解形成：RO4Si、R1SiCl3、R2SiCl3、R3SiCl3和R4SiCl3其中：R是烷基例如甲基或乙基基团，R1是发色团例如苯基、苯基甲基、苯基乙基和苯基丙基，R2是H，R3是甲基或任选取代的C2‑C5烷基基团，并且任选的R4是亲水基团例如2‑[甲氧基聚亚乙基氧基6‑9丙基]或2‑甲酯基乙基，其中起始单体混合物中每种单体的摩尔％浓度0.00A、B、C、D0.95，0.00≤E0.50和A+B+C+D+E的总摩尔数＝1。

主权项：1.用于ARCHM的耐蚀刻抗反射组合物，包含：硅氧烷共聚物，其由以下单体在溶剂中的共水解形成：ARO4Si,BR1SiCl3，CR2SiCl3，DR3SiCl3，ER4SiCl3，其中：R在每次出现时，独立地表示具有1-12、更优选1-6个C原子的烷基，R1在每次出现时，独立地表示波长为180-210nm显微光刻法中抗反射的发色团，例如苯基、苯基甲基、苯基乙基或苯基丙基，R2是H，R3在每次出现时，独立地表示甲基或任选取代的C2-C5烷基基团，R4在每次出现时，独立地表示亲水基团例如2-[甲氧基聚亚乙基氧基6-9丙基]或2-甲酯基乙基，其中起始单体混合物中每种单体的摩尔％浓度0.00A、B、C、D0.95，0.00≤E0.50和A+B+C+D+E的总摩尔数＝1。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海艾深斯科技有限公司 组合的ARC和Si基硬掩模薄膜的组合物

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