买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明公布】一种具有高比例暴露酸性位的高硅FAU分子筛及其制备方法和应用_浙江工业大学_202310432971.2 

申请/专利权人:浙江工业大学

申请日:2023-04-21

公开(公告)日:2023-08-01

公开(公告)号:CN116514138A

主分类号:C01B39/48

分类号:C01B39/48;B01J20/18;B01J20/30;C07C37/82;C07C39/07;C07C39/04

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.08.18#实质审查的生效;2023.08.01#公开

摘要:本发明涉及一种具有高比例暴露酸性位的高硅FAU分子筛及其微结构组装制备方法和应用。所述分子筛吸附剂具有FAU分子筛构型,其化学组成摩尔比为Al2O3:mSiO2:nM2O。元素组成中包含较多的四价元素Si及较少的三价元素Al,氧化物的摩尔比m=SiO2Al2O3数值在5‑20。该种分子筛采用冠醚、碱、水,硅源及铝源调配成的初始凝胶,调整双模板剂的电荷密度,组装FAU分子筛不同笼结构进行合成,同时实现暴露酸性位比例的调控。和Beta、NaY等商业分子筛相比,本发明中具有高比例暴露酸性位的高硅FAU分子筛可以应用于液相体系中的酚类物质吸附分离,尤其是在苯酚异辛烷溶液中优先大量吸附苯酚,2,5‑二甲基苯酚水溶液中优先大量吸附2,5‑二甲基苯酚。

主权项:1.一种具有高比例暴露酸性位的高硅FAU分子筛,其化学组成摩尔比为aYO2:bX2O3:cM2O,其中M为一价元素或者一价阳离子;进行X线衍射测定时,至少在以下4个晶面间距d内具有的特征峰:第一晶面间距d=14.2±0.2,第二晶面间距d=8.7±0.2,第三晶面间距d=7.4±0.2,第四晶面间距d=5.6±0.2。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江工业大学 一种具有高比例暴露酸性位的高硅FAU分子筛及其制备方法和应用

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

相关技术
相关技术
相关技术
相关技术