申请/专利权人：闽都创新实验室

申请日：2023-06-14

公开（公告）日：2023-09-15

公开（公告）号：CN116755302A

主分类号：G03F7/42

分类号：G03F7/42;B08B3/08;G03F7/16;G03F7/20;G03F9/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.10.03#实质审查的生效;2023.09.15#公开

摘要：本发明公开了浸入式直边边胶去除装置，涂覆光刻胶并带有直边的基片安装在所述基片固定臂上；所述视觉识别系统用于采集基片固定臂上基片的轮廓图像，并将采集的基片轮廓图像信息输送给信号处理模块进行计算处理，旋转组件和升降组件根据信号处理模块的计算结果响应相应的动作，使得基片的直边旋转至水平并定量下降浸入溶剂槽内液面；基片各直边厚胶得以溶解去除；自动化程度高，边胶去除尺寸可控程度高，对光刻胶面污染风险小，同时基片侧壁残胶得到同步溶解去除，降低后道工艺操作中侧壁残胶带来的污染风险。

主权项：1.浸入式直边边胶去除装置，其特征在于，包括：基片固定臂110，涂覆光刻胶并带有直边的基片111可拆卸安装在所述基片固定臂110上；旋转组件107，所述旋转组件107用于驱动与其连接的基片固定臂110上的基片111旋转；溶剂槽101；升降组件，所述升降组件用于驱动基片固定臂1100上的基片111直边相对浸入溶剂槽101内的溶剂或脱离；视觉识别系统112，所述视觉识别系统112用于采集基片固定臂110上基片111的轮廓图像，并将采集的基片轮廓图像信息输送给信号处理模块301进行计算处理，旋转组件107和升降组件根据信号处理模块301的计算结果响应相应的动作，使得基片111的直边旋转至水平并定量下降浸入溶剂槽101内液面。

全文数据：

权利要求：

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