申请/专利权人：康惠(惠州)半导体有限公司

申请日：2023-05-15

公开（公告）日：2023-10-13

公开（公告）号：CN219831583U

主分类号：G02F1/1341

分类号：G02F1/1341;G08B21/24;G08B3/10

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.10.13#授权

摘要：本实用新型提供了一种解决LCD角落灌晶不满的处理设备，包括缸体、气泵、置物台；置物台水平设置于缸体内，所述缸体上设置有充气口、泄压口，所述充气口、泄压口上均设置有阀门，所述气泵经管路连接充气口；缸体一侧开口，所述开口处安装有开关门，所述开关门与缸体的贴合面设有密封件；缸体上设置有压力表；本设备在不改变原加工方式的基础上，提供一个可监控压力的加压密闭缸体，大尺寸或者低盒厚的LCD依照原加工方式正常灌晶至内外压力一致后，通过增加LCD外围压力，加快液晶灌入的速度，使角落部位也充满液晶；相比于有的静置处理，不会因长时间放置影响产线产能，相比于现有的加热处理，能避免灌晶冲刷不良。

主权项：1.一种解决LCD角落灌晶不满的处理设备，其特征在于：包括缸体、气泵、置物台；所述置物台水平设置于缸体内，所述缸体上设置有充气口、泄压口，所述充气口、泄压口上均设置有阀门，所述气泵经管路连接充气口；所述缸体一侧开口，所述开口处安装有开关门，所述开关门与缸体的贴合面设有密封件；所述缸体上设置有压力表。

全文数据：

权利要求：

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