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【发明公布】一种用于OVD工艺的可调截面沉积腔_长飞光纤光缆股份有限公司_202310884783.3 

申请/专利权人:长飞光纤光缆股份有限公司

申请日:2023-07-17

公开(公告)日:2023-11-14

公开(公告)号:CN117049778A

主分类号:C03B37/014

分类号:C03B37/014;C03B20/00;C03B19/14

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.12.01#实质审查的生效;2023.11.14#公开

摘要:本发明涉及一种用于OVD工艺的可调截面沉积腔,沉积腔体的一端与进风腔相连通,在进风腔侧竖直安设有一排上下间隔的喷灯,在沉积腔体中安设有上、下旋转夹盘,沉积腔体的另一端与抽风腔相连,其特征在于沉积腔体分为固定腔体和活动腔体两个部分,固定腔体位于沉积腔体的后段并与抽风腔相连,活动腔体位于沉积腔体的中前段并与进风腔相连,活动腔体包括对称安设在沉积腔体两侧的摆动隔板,摆动隔板后端分别与固定腔体前端侧相铰接,摆动隔板的后面与伸缩推进装置相连,构成部分横向截面可调的沉积腔体。本发明沉积时通过摆动隔板的摆转,使得粉棒外周与沉积腔体侧壁的间距保持相对的恒定,从而保持气流场的稳定性,提高沉积质量和效率。

主权项:1.一种用于OVD工艺的可调截面沉积腔,包括有沉积腔体,沉积腔体的一端与进风腔相连通,在进风腔侧竖直安设有一排上下间隔的喷灯,在沉积腔体中安设有上、下旋转夹盘,上、下旋转夹盘或喷灯与上下移动装置相连,沉积腔体的另一端与抽风腔相连,其特征在于所述的沉积腔体分为固定腔体和活动腔体两个部分,所述的固定腔体位于沉积腔体的后段并与抽风腔相连,所述的活动腔体位于沉积腔体的中前段并与进风腔相连,所述的活动腔体的后端与固定腔体的前端相接,所述的活动腔体包括对称安设在沉积腔体两侧的摆动隔板,所述的摆动隔板后端与固定腔体前端侧相铰接,摆动隔板的后面与伸缩推进装置相连,构成部分横向截面可调的沉积腔体。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 长飞光纤光缆股份有限公司 一种用于OVD工艺的可调截面沉积腔

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