申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2023-08-30

公开（公告）日：2023-11-17

公开（公告）号：CN117075242A

主分类号：G02B5/18

分类号：G02B5/18

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.12.05#实质审查的生效;2023.11.17#公开

摘要：本发明涉及机械光栅刻划技术领域，尤其涉及一种竖置光栅刻划系统，结构主要包括分度位移台、刻划模块和刀具模块；其中，刻划模块竖直固定在分度位移台的一侧，待刻划的光栅基底固定在刻划模块上，使光栅基底进行竖直方向的运动，避免了倾覆力对刻划运动的影响；刀具模块固定在分度位移台的滑动部分上，使分度位移台带动刀具模块完成水平方向的分度运动，实现降低分度运动平台负载，减小分度平台所承受的起止冲击，简化刀桥结构，提高分度运动精度。

主权项：1.一种竖置光栅刻划系统，包括分度位移台，其特征在于，还包括刻划模块和刀具模块；其中，所述刻划模块竖直固定在所述分度位移台的一侧，待刻划的光栅基底固定在所述刻划模块上，所述刻划模块带动所述光栅基底进行竖直方向的运动；所述刀具模块固定在所述分度位移台上，所述分度位移台带动所述刀具模块进行水平方向的分度运动。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 竖直光栅刻划系统

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