申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2023-12-27

公开（公告）日：2024-01-30

公开（公告）号：CN117474922A

主分类号：G06T7/00

分类号：G06T7/00;G06T5/70;G06T7/50;G06T7/593;G06T7/66

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.02.20#实质审查的生效;2024.01.30#公开

摘要：本发明涉及光场成像的技术领域，具体提供基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法及系统，方法包括：获取光场原始图像；采用光场参数化，为角坐标，为空间坐标，输入光场中的每个像素并基于候选深度标签重新映射到剪切光场；根据剪切光场，判断遮挡类型；若遮挡为线型遮挡，则构造部分角度域成本量；若遮挡为块遮挡，则构造自适应角度域成本量；根据成本最小准则，求解成本量的初始深度图；采用多种滤波策略，对初始深度图进行噪声感知优化，获取最终深度图。因此，本发明基于场景立体模型得到的遮挡图用于遮挡检测，以提高遮挡检测的精确度；提升算法对噪声和遮挡的适应能力，提高了光场深度估计的精度。

主权项：1.一种基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法，其特征在于，包括：S1.获取光场原始图像；S2.对所述光场原始图像进行光场参数化，为角坐标，为空间坐标，输入光场中的每个像素并基于候选深度标签重新映射到剪切光场；S3.根据所述剪切光场，判断遮挡类型；S4.若所述遮挡为线型遮挡，则构造部分角度域成本量；若所述遮挡为块遮挡，则构造自适应角度域成本量；S5.根据成本最小准则，求解成本量的初始深度图，所述成本量包括所述部分角度域成本量或所述自适应角度域成本量；S6.采用多种滤波策略，对所述初始深度图进行噪声感知优化，获取最终深度图。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法及系统

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