申请/专利权人：青岛四方思锐智能技术有限公司

申请日：2020-04-24

公开（公告）日：2024-02-13

公开（公告）号：CN113924385B

主分类号：C23C16/44

分类号：C23C16/44;C23C16/455;H01L21/02

优先权：["20190425 FI 20195335"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.02.13#授权;2023.05.26#专利申请权的转移;2022.09.23#专利申请权的转移;2022.09.23#著录事项变更;2022.01.28#实质审查的生效;2022.01.11#公开

摘要：本发明涉及与原子层沉积反应器连接的气体分配单元10。该气体分配单元10包括：入口表面14；出口表面16；工艺气体通道20，40，其延伸穿过气体分配单元10并向入口表面14和出口表面16开放；阻隔气体入口配件26，46，30，33，其在入口表面14和出口表面16之间被连接至工艺气体通道20，40，以将阻隔气体供应至工艺气体通道20，40；以及阻隔气体出口配件28，48，34，39，其在入口表面14和阻隔气体入口配件26，46，30，33之间被连接至工艺气体通道20，40，以从工艺气体通道20，40排放阻隔气体。

主权项：1.一种与原子层沉积反应器连接的气体分配单元10，所述原子层沉积反应器包括反应室，所述气体分配单元10包括用于供给前体气体和阻隔气体的气体通道20，26，28，30，40，46，48，其特征在于，所述气体分配单元10包括：-入口表面14，52，气体经由所述入口表面14，52被供应至所述气体分配单元10中；-出口表面16，64，前体气体经由所述出口表面16，64从所述气体分配单元10被排放；-工艺气体通道20，40，所述工艺气体通道20，40延伸穿过所述气体分配单元10并向所述入口表面14，52和所述出口表面16，64开放；-阻隔气体入口配件26，46，30，33，所述阻隔气体入口配件26，46，30，33在所述入口表面14，52和所述出口表面16，64之间被连接至所述工艺气体通道20，40，以将阻隔气体供应至所述工艺气体通道20，40；以及-阻隔气体出口配件28，48，34，39，所述阻隔气体出口配件28，48，34，39在所述入口表面14，52和所述阻隔气体入口配件26，46，30，33之间被连接至所述工艺气体通道20，40，以从所述工艺气体通道20，40排放阻隔气体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 青岛四方思锐智能技术有限公司 与ALD反应器连接的气体分配单元

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