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光源装置以及投影装置 

申请/专利权人:深圳光峰科技股份有限公司

申请日:2023-07-11

公开(公告)日:2024-02-23

公开(公告)号:CN220526171U

主分类号:G03B21/20

分类号:G03B21/20;G02B27/09;G02B27/30

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.02.23#授权

摘要:本申请公开了一种光源装置以及投影装置,涉及光学技术领域。包括:多个发光单元;多个第一准直透镜,每个第一准直透镜设置在每个第一准直透镜对应的发光单元出射的光束的光路上,且多个第一准直透镜均设置于第一平面,每个第一准直透镜的光轴与对应的发光单元的中心轴重合;多个第二准直透镜,每个第二准直透镜设置在对应的第一准直透镜出射的准直光束的光路上,且多个第二准直透镜均设置于第二平面,第二平面与第一平面平行。如此,通过使用多个发光单元,并控制每个第一准直透镜的光轴与对应的发光单元的中心轴重合,提高了光源装置出射光束的亮度以及均匀性,并降低了光源装置的制备成本。

主权项:1.一种光源装置,其特征在于,所述光源装置包括:多个发光单元;多个第一准直透镜,多个所述第一准直透镜与多个所述发光单元一一对应,每个所述第一准直透镜设置在每个所述第一准直透镜对应的发光单元出射的光束的光路上,且多个所述第一准直透镜均设置于第一平面,每个所述第一准直透镜的光轴与每个所述第一准直透镜对应的发光单元的中心轴重合;多个第二准直透镜,多个所述第二准直透镜与多个所述第一准直透镜一一对应,每个所述第二准直透镜设置在每个所述第二准直透镜对应的第一准直透镜出射的准直光束的光路上,且多个所述第二准直透镜均设置于第二平面,所述第二平面与所述第一平面平行。

全文数据:

权利要求:

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