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【发明公布】一种采用高锰酸钾碱性除胶液粗化PI膜表面的方法_欣强电子(清远)有限公司_202311591697.X 

申请/专利权人:欣强电子(清远)有限公司

申请日:2023-11-27

公开(公告)日:2024-03-01

公开(公告)号:CN117624699A

主分类号:C08J7/14

分类号:C08J7/14;C08L79/08

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.03.01#公开

摘要:本发明公开了一种采用高锰酸钾碱性除胶液粗化PI膜表面的方法,本方法中包括制备活性氧化铝负载高锰酸钾溶液,按照本发明方法最终处理后的软板表面PI膜,测试粗糙度好,有利于改善品质与操作,原因在于高锰酸钾具有强氧化性,可以与PI膜表面发生氧化反应,增加表面的粗糙度和附着力。通过高温活性氧化铝的负载,可以增加PI膜表面的极性和活性,使其与高锰酸钾溶液的反应更加充分和均匀,从而增强附着力。高温活性氧化铝具有较好的吸附性能,可以去除PI膜表面的一些杂质和污染物,有利于表面粗化的进行。通过高温活性氧化铝负载高锰酸钾溶液对PI膜表面的处理,可以形成一层具有一定厚度的氧化膜,能够有效地增强表面的耐蚀性和抗老化性能。

主权项:1.一种采用高锰酸钾碱性除胶液粗化PI膜表面的方法,其特征在于,具体步骤包括:1准备原料,准备高纯度的高锰酸钾、氢氧化钠、活性氧化铝粉、活性炭、去离子水;2制备活性氧化铝负载高锰酸钾溶液,按5%-9%的浓度取纳米级二氧化钛置于去离子水中,搅拌溶解后倒入超声波分散仪中分散,制得二氧化钛分散液;随后将高锰酸钾以及氢氧化钠按照5:1-10:1混合后,随后按10%-15%的浓度溶解于去离子水中,磁力搅拌后制得高锰酸钾溶液;再按成品材料总质量的55%的质量比例秤取活性炭,粉碎过筛,倒入12的高锰酸钾溶液中,磁力搅拌后真空抽滤,滤出后放入马弗炉中处理得到活性炭负载高锰酸钾;最后按成品材料总质量的18%-22%的质量比例秤取活性氧化铝粉,倒入12的高锰酸钾溶液中,磁力搅拌得到活性氧化铝负载高锰酸钾溶液;3高温处理,将活性氧化铝负载高锰酸钾溶液加热至200℃,保持60分钟,促进化学反应;4处理软板表面PI膜,将软板完全浸泡至反应液中,控制反应温度在120℃-150℃,保持60分钟;5冷却和清洗,冷却反应液至室温,使用充足的水冲洗反应器内部和软板表面PI膜表面,清除残留的除胶液;6干燥处理,对处理过的软板表面PI膜进行适当干燥。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 欣强电子(清远)有限公司 一种采用高锰酸钾碱性除胶液粗化PI膜表面的方法

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