申请/专利权人：南京昀光科技有限公司

申请日：2023-12-14

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN117693252A

主分类号：H10K59/80

分类号：H10K59/80;H10K59/38;H10K59/12;H10K71/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.29#实质审查的生效;2024.03.12#公开

摘要：本发明实施例提供一种硅基显示面板的制作方法、硅基显示面板及扩展现实设备，涉及显示技术领域。硅基显示面板的制作方法包括：提供硅基背板；在所述硅基背板上沉积绝缘介质膜；刻蚀所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成曲面凹槽，并暴露出所述硅基背板中的连接过孔；在所述绝缘介质膜远离所述硅基背板的一侧沉积阳极膜层；通过化学机械抛光的方式，去除所述阳极膜层位于相邻所述曲面凹槽之间的部分，形成多个阳极。本发明实施例提供一种硅基显示面板的制作方法、硅基显示面板及扩展现实设备，以实现增加硅基显示面板的光提取效率，以及简化硅基显示面板的制作工艺。

主权项：1.一种硅基显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供硅基背板；在所述硅基背板上沉积绝缘介质膜；刻蚀所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成曲面凹槽，并暴露出所述硅基背板中的连接过孔；在所述绝缘介质膜远离所述硅基背板的一侧沉积阳极膜层；通过化学机械抛光的方式，去除所述阳极膜层位于相邻所述曲面凹槽之间的部分，形成多个阳极。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 南京昀光科技有限公司 硅基显示面板的制作方法、硅基显示面板及扩展现实设备

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