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【发明公布】光吸收剂、组合物、光学构件及光吸收剂的制造方法_株式会社日本制钢所_202311202485.8 

申请/专利权人:株式会社日本制钢所

申请日:2023-09-18

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN117720770A

主分类号:C08K5/523

分类号:C08K5/523;C07F9/09;G02B1/04;C08K5/5317;C08K5/521;C08K5/5313;C08K5/098;C08L79/08;C08L1/02

优先权:["20220916 JP 2022-147963"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.03.19#公开

摘要:本发明提供与树脂的混溶性优异的光吸收剂,制造这种光吸收剂的方法、这种光吸收剂的分散性优异的组合物以及可见光透射性能和近红外辐射阻挡性能优异的光学构件。所述光吸收剂包含由以下式1表示的化合物和铜离子。在上文中,R1是由上式2表示的基团,R10是可具有取代基的亚烷基或亚芳基,R12是可具有取代基的亚烷基或亚芳基,并且其它符号如说明书中所述。

主权项:1.一种光吸收剂,其包含:由下式1表示的化合物;和铜离子, 其中R1是由下式2表示的基团,R2是羟基、-R3、-Ar1、-OR3、-OAr1、-OR4-Ar1、-OCOR3、-OCOAr1、-R4-NR52或-R1,R3是可具有取代基的烷基,Ar1是可具有取代基的芳基,R4是可具有取代基的亚烷基,R5是氢原子或可具有取代基的烷基, R10是可具有取代基的亚烷基或亚芳基,R11是单键或可具有取代基的亚烷基,R12是可具有取代基的亚烷基或亚芳基,其中键合至R13的R12是单键,R13是氢原子或-R14或-R15OH,R14是可具有取代基的烷基,R15是单键或可具有取代基的亚烷基,n是不小于1的整数,*是键合至P的键,以及如果式包括多个相同的符号,所述多个相同的符号可以是彼此相同或不同的基团。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社日本制钢所 光吸收剂、组合物、光学构件及光吸收剂的制造方法

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