申请/专利权人：上海红岩临芯半导体科技有限公司

申请日：2023-12-01

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117331291B

主分类号：G03F7/30

分类号：G03F7/30;G06Q10/0631;G06Q50/04;H01L21/67

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2024.01.19#实质审查的生效;2024.01.02#公开

摘要：本发明提供了一种涂胶显影设备单元均衡流片的调度方法及系统，包括：步骤S1：判断处于空闲状态的所有工艺单元的使用状态；步骤S2：根据工艺单元的使用状态选择最优工艺单元作为加工程序路径执行工艺。本发明可有效避免工艺单元的重复使用或者不使用状况，提高设备的使用周期。

主权项：1.一种涂胶显影设备单元均衡流片的调度方法，其特征在于，包括：步骤S1：判断处于空闲状态的所有工艺单元的使用状态；步骤S2：根据工艺单元的使用状态选择最优工艺单元作为加工程序路径执行工艺；所述步骤S1采用： 其中，Time表示总使用时间；Count表示使用次数；FIT表示故障率；STATUS表示当前工艺单元的综合使用率；表示需要根据总使用时间判断整体设备硬件使用寿命；表示根据使用次数判断局部零部件的使用寿命；所述步骤S2采用：判断所有涂胶显影设备工艺单元的状态，若工艺单元为忙碌或错误状态，则不继续判断；若存在多个空闲状态的工艺单元，则分别计算综合使用率；选择最小值的腔体作为加工Process路径；若多个空闲工艺单元使用综合使用率一致，则根据原有的排程调度进行Process加工路径得选择。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海红岩临芯半导体科技有限公司 涂胶显影设备单元均衡流片的调度方法及系统

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