申请/专利权人：安迈特科技(北京)有限公司

申请日：2023-08-25

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN220619077U

主分类号：C23C14/24

分类号：C23C14/24;C23C14/04;C23C14/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权

摘要：本实用新型涉及真空蒸发镀膜技术领域，公开了一种真空蒸发镀膜设备，包括镀膜辊和蒸发源，镀膜辊具有正对蒸发源的蒸发镀膜区，蒸发源与镀膜辊之间设置有两个固定挡板，两个固定挡板分别设置在蒸发镀膜区的两侧以用于遮蔽蒸发镀膜区两侧的其它区域；两个固定挡板与蒸发源之间还设置有移动挡板组件，移动挡板组件包括能够相互靠近或相互远离的第一挡板和第二挡板，第一挡板与第二挡板具有遮蔽两个固定挡板且露出蒸发镀膜区的第一位置和同时露出两个固定挡板和蒸发镀膜区的第二位置；本实用新型通过利用移动挡板组件代替两个固定挡板以承接部分金属蒸汽，从而延长了单次镀膜长度，提高了复合集流体的生产效率。

主权项：1.一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，包括镀膜辊1和蒸发源2，所述镀膜辊1具有正对所述蒸发源2的蒸发镀膜区101，所述蒸发源2与所述镀膜辊1之间设置有两个固定挡板3，所述两个固定挡板3分别设置在所述蒸发镀膜区101的两侧以用于遮蔽所述蒸发镀膜区101两侧的其它区域102；所述两个固定挡板3与所述蒸发源2之间还设置有移动挡板组件4，所述移动挡板组件4包括能够相互靠近或相互远离的第一挡板41和第二挡板42，所述第一挡板41与所述第二挡板42具有遮蔽所述两个固定挡板3且露出所述蒸发镀膜区101的第一位置和同时露出所述两个固定挡板3和所述蒸发镀膜区101的第二位置。

全文数据：

权利要求：

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