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【发明公布】一种超分辨无衍射横向偏振光针的产生方法_泉州师范学院_202410173605.4 

申请/专利权人:泉州师范学院

申请日:2024-02-07

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117741964A

主分类号:G02B27/00

分类号:G02B27/00;G02B27/28;G02B27/58

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本发明涉及横向偏振光针生成的技术领域,本发明公开了一种超分辨无衍射横向偏振光针的产生方法,方法包括:在紧聚焦光学系统的共焦区放置磁流线源天线;计算磁流线源天线的辐射场,并在此基础上叠加相同空间朝向为法线的所在平面的一阶螺旋相位因子后整体往紧聚焦光学系统外侧辐射,整体辐射场被紧聚焦光学系统收集并准直到入瞳面以求得入瞳面光场;通过时间反演技术反转此时入瞳面光场作为入射场;将入射场从紧聚焦光学系统两侧的入瞳面入射,经紧聚焦光学系统传播并在共焦区汇聚,从而可在共焦区形成指定方向的超分辨无衍射横向光针。通过本方法无需复杂优化过程,且构建的超分辨无衍射横向偏振光针的长度可定制、朝向可调整。

主权项:1.一种超分辨无衍射横向偏振光针的产生方法,其特征在于:所述方法包括:由两个具有共焦区的物镜建立紧聚焦光学系统;在所述紧聚焦光学系统的共焦区放置磁流线源天线;其中,所述磁流线源天线可任意指向,磁流线源天线上的载波磁流在其长度范围内均匀同相;计算磁流线源天线的辐射场,并在此基础上叠加相同空间朝向为法线的所在平面的一阶螺旋相位因子后整体往紧聚焦光学系统外侧辐射,整体辐射场被紧聚焦光学系统收集并准直到入瞳面,并根据透镜对光线的弯折效应以求得入瞳面光场;通过时间反演技术反转此时入瞳面光场,作为入射场;将所述入射场从所述紧聚焦光学系统两侧的入瞳面入射,经所述紧聚焦光学系统传播并在共焦区汇聚,从而可在共焦区形成指定方向的超分辨无衍射横向光针;其中,从所述紧聚焦光学系统两侧入瞳面入射的所述入射场的相位相差180°。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 泉州师范学院 一种超分辨无衍射横向偏振光针的产生方法

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