申请/专利权人：江苏奥首材料科技有限公司

申请日：2023-11-21

公开（公告）日：2024-03-26

公开（公告）号：CN117757432A

主分类号：C09K3/14

分类号：C09K3/14;C09G1/02;H01L21/306

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.12#实质审查的生效;2024.03.26#公开

摘要：本发明涉及一种适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液，按照重量份计算，包括催化剂助剂5‑10份；催化剂前驱体10‑20份；氧化剂5‑15份；分散剂5‑20份；pH调节剂5‑20份；表面活性剂0.2‑5份；去离子水15‑45份。本发明还公开了上述研磨液的制备方法及用途。本发明的催化剂助剂同时含有吡啶基团与羧基基团，其具有加快凝胶的过程，减少反应的活化能，提高悬浮性的作用。氧化剂蒽醌‑2‑磺酸钠具有光激发氧化作用，可显著提高光催化效率，亚甲基二萘磺酸钠分散剂可提高分散、悬浮性。十八醇聚氧乙烯醚作为表面活性剂可以与催化剂助剂、分散剂等产生静电排斥效果，增强其对磨料的悬浮性。本发明通过多组分协同共同提高研磨液的悬浮性。

主权项：1.一种适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液，其特征在于，按照重量份计算，包括如下组分： 其中，所述的催化剂助剂为2-甲基吡啶-4-甲酸、6-羧基吡啶-2-甲醇、2-羧基吡啶-5-硼酸、5-羧基-2,3-二氨基吡啶、5,6-二甲基-3-羧基-2-吡啶酮中的一种；所述的催化剂前驱体为钛酸四丁酯、正硅酸乙酯中的一种；所述的氧化剂为吡啶-4-乙酸盐钠、蒽醌-2-磺酸钠、氰基乙烯、2,4,6-三苯基吡啶鎓四氟硼酸盐中的一种。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江苏奥首材料科技有限公司 一种适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液、制备方法及用途

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