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【发明授权】一种可应用于强光环境下的偏光片_深圳市茂晶源光电有限公司_202111261711.0 

申请/专利权人:深圳市茂晶源光电有限公司

申请日:2021-10-28

公开(公告)日:2024-03-26

公开(公告)号:CN113759592B

主分类号:G02F1/1335

分类号:G02F1/1335;G02B5/30;G02B1/10

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.26#授权;2021.12.24#实质审查的生效;2021.12.07#公开

摘要:本发明提供了一种可应用于强光环境下的偏光片,包括双面透射式偏光片,双面透射式偏光片的吸收轴为曲线,双面透射式偏光片采用聚苯乙烯‑嵌段‑甲基丙烯酸正丁酯与金属纳米氧化锆颗粒制成;双面透射式偏光片的一侧设置有第一导光层,第一导光层上设置有第一保护膜,第一保护膜上依次设置有第一透光基板和第二透光基板,第一透光基板与第二透光基板之间设置有第一偏光片;另一侧设置有第二导光层,第二导光层上设置有第二保护膜,第二保护膜上依次设置有第三透光基板和第四透光基板,第三透光基板与第四透光基板之间设置有第二偏光片。所述偏光片通过上述机构可解决显示屏在强光环境下无法观察清楚的问题。

主权项:1.一种可应用于强光环境下的偏光片,其特征在于,包括一双面透射式偏光片,所述双面透射式偏光片的吸收轴为曲线,所述双面透射式偏光片采用聚苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸正丁酯与金属纳米氧化锆颗粒制成;所述双面透射式偏光片具有第一表面和与第一表面相对设置的第二表面,所述第一表面上设置有第一导光层,所述第一导光层上设置有第一保护膜,所述第一保护膜上依次设置有第一透光基板和第二透光基板,所述第一透光基板与所述第二透光基板之间设置有第一偏光片,所述第一偏光片包括沿垂直于所述双面透射式偏光片平面方向延伸的的多个第一柱形体,多个所述第一柱形体等间距设置,相邻两个所述第一柱形体之间形成一第一光路通道,所述第二透光基板上设置有第一抗导热层,所述第一抗导热层内部设置有多个微孔,所述第一抗导热层上设置有第一增亮膜;所述第二表面上设置有第二导光层,所述第二导光层上设置有第二保护膜,所述第二保护膜上依次设置有第三透光基板和第四透光基板,所述第三透光基板与所述第四透光基板之间设置有第二偏光片,所述第二偏光片包括沿垂直于所述双面透射式偏光片平面方向延伸的的多个第二柱形体,多个所述第二柱形体等间距设置,相邻两个所述第二柱形体之间形成一第二光路通道,所述第四透光基板上设置有第二抗导热层,所述第二抗导热层内部设置有多个微孔,所述第二抗导热层上设置有第二增亮膜;其中,所述第一柱形体与所述第二柱形体均由PVA经过光固化而成;所述双面透射式偏光片的偏光度不低于50%,透过率不低于44%。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 深圳市茂晶源光电有限公司 一种可应用于强光环境下的偏光片

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