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微型发光结构的制备方法、掩膜结构及微型发光结构 

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申请/专利权人:深圳市思坦科技有限公司

摘要:本公开提供了一种微型发光结构的制备方法、掩膜结构及微型发光结构。该方法包括:获取键合结构,键合结构包括驱动芯片、与驱动芯片键合的光芯片,光芯片包括衬底层和设置于衬底层上的发光单元阵列;通过第一掩膜结构对键合结构进行激光照射,再对激光照射后的键合结构的衬底层进行剥离;第一掩膜结构包括第一透光区和第一遮挡区;通过第二掩膜结构对剥离后的键合结构进行激光照射,得到表面图案化的发光单元阵列;第二掩膜结构包括第二透光区和第二遮挡区。该方法在激光剥离时通过制备两个激光掩膜避免外围电路被激光损伤的同时案对光芯片的发光单元阵列表面进行图案化在清楚表面Ga残留的同时形成适当的图案,破坏GaN的全反射并增加出光。

主权项:1.一种微型发光结构的制备方法,其特征在于,所述方法包括:获取键合结构,所述键合结构包括驱动芯片、与所述驱动芯片键合的光芯片,所述光芯片包括衬底层和设置于所述衬底层上的发光单元阵列;通过第一掩膜结构对键合结构进行激光照射,再对激光照射后的键合结构的衬底层进行剥离;所述第一掩膜结构包括第一透光区和第一遮挡区;通过第二掩膜结构对剥离后的键合结构进行激光照射,得到表面图案化的发光单元阵列;所述第二掩膜结构包括第二透光区和第二遮挡区。

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权利要求:

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