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【发明公布】一种光化学降解药厂污染性气体的装置及其使用方法_北京市燕京药业有限公司_202410196725.6 

申请/专利权人:北京市燕京药业有限公司

申请日:2024-02-22

公开(公告)日:2024-04-02

公开(公告)号:CN117797638A

主分类号:B01D53/86

分类号:B01D53/86;B01D53/00;B01D46/10;B01D53/78;B01D53/75;B01D53/62;B08B9/087

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要:本发明涉及光化学降解技术领域,更具体的公开了一种光化学降解药厂污染性气体的装置及其使用方法,包括外壳组件,所述外壳组件包括装置外壳,装置外壳的内部从上至下依次开设有进气腔、反应腔、吸附腔与循环腔,装置外壳的顶部安装有端盖,端盖的底部安装有伸缩组件,端盖的顶部开设有进气口,所述进气腔内部位于伸缩组件的底部安装有隔离清洁架;本发明通过设有清洁刮板,有利于在密封板下降时清洁刮板会将二氧化钛环内壁表面形成的水珠进行清理,形成被动清理,在反应结束后伸缩组件控制密封板下降与上升移动的过程中,清洁刮板对二氧化钛环的内壁进行主动清理,使得的内壁始终保持较高的光洁度,具有较高的反应催化作用。

主权项:1.一种光化学降解药厂污染性气体的装置,包括外壳组件1,其特征在于:所述外壳组件1包括装置外壳101,装置外壳101的内部从上至下依次开设有进气腔102、反应腔103、吸附腔108与循环腔109,装置外壳101的顶部安装有端盖,端盖的底部安装有伸缩组件2,端盖的顶部开设有进气口112,所述进气腔102内部位于伸缩组件2的底部安装有隔离清洁架3,所述反应腔103的内壁安装有二氧化钛环6,反应腔103内部位于二氧化钛环6的底部开设有支撑槽105,支撑槽105的内部安装有灯固定架4,所述灯固定架4的顶部安装有LED灯5,所述装置外壳101内部位于反应腔103底部开设有锥形孔,锥形孔的底部开设有过滤槽106,过滤槽106的内部安装有过滤板7,锥形孔的侧面开设有出气口113,吸附腔108的底部开设有单向滤套107,单向滤套107的内部安装有单向气组件8,所述循环腔109的底部开设有传动孔111,循环腔109的侧面开设有多个循环下孔110,循环下孔110的外侧安装有循环气管12,所述循环气管12的两端分别安装在循环上孔104与循环下孔110上,所述循环腔109的内部安装有传动组件9,传动组件9包括第一电机901与扇叶902,扇叶902的启停由控制模块进行控制。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京市燕京药业有限公司 一种光化学降解药厂污染性气体的装置及其使用方法

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