申请/专利权人：湖北兴福电子材料股份有限公司

申请日：2023-11-24

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117806139A

主分类号：G03F7/42

分类号：G03F7/42

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明涉及一种光刻胶清洗液。该清洗液由PGMEA、饱和环醚、羧酸类高分子鳌合剂、添加剂和去离子水组成。饱和环醚为二氧五环、四氢呋喃、四氢吡喃、二氧六环中的至少一种。羧酸类高分子鳌合剂为马来酰亚胺单酰胺‑DTPA。添加剂为氮杂冠醚，取自氮杂‑18‑冠醚‑6、氮杂‑15‑冠醚‑5、氮杂‑12‑冠醚‑4、氮杂‑10‑冠醚‑3中的至少一种。该清洗液同时适用于正光刻胶和负光刻胶的清洗。其中PGMEA和饱和环醚协同作用，使光阻膨胀泡发剥离，添加剂的加入增强了药液对光刻胶的浸润性和溶解性。氮杂冠醚与羧酸类高分子鳌合剂协同作用络合金属阳离子或正离子，抑制了光刻胶清洗液对底层金属及介质层材料的腐蚀，同时对晶圆表面的金属沾污有极好的清洗效果。

主权项：1.一种光刻胶清洗液，其特征在于，所述的光刻胶清洗液含PGMEA、饱和环醚、羧酸类高分子鳌合剂、添加剂和去离子水；PGMEA的含量为60％～80％、饱和环醚的含量为5％～10％、羧酸类高分子鳌合剂的含量为1％-3％、添加剂的含量为0.1％-1％，余量为去离子水。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 湖北兴福电子材料股份有限公司 一种光刻胶清洗液

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