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在互连金属化中沉积钌层 

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申请/专利权人:朗姆研究公司

摘要:提供了用于钌Ru特征填充的沉积工艺。在一些实施方案中,所述工艺包括在还原条件下沉积薄的、保护性Ru膜,然后在氧化条件下进行Ru填充步骤。在无氧条件下或通过除氧操作形成的保护性Ru膜的存在可以使Ru填充而不会氧化下面粘附层或金属特征。

主权项:1.一种方法,其包括:接收包含特征的衬底;执行多个原子层沉积ALD循环以在所述特征中沉积钌Ru衬里层的步骤;以及在沉积所述Ru衬里层之后,通过使第一钌前体与氧化剂反应以形成金属钌Ru来至少部分地用钌填充所述特征的步骤,其中所述ALD循环中的每一个包括还原剂配料和所述第一钌前体的配料或不同于所述第一钌前体的第二钌前体的配料。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 朗姆研究公司 在互连金属化中沉积钌层

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