申请/专利权人:东莞新科技术研究开发有限公司
申请日:2018-12-25
公开(公告)日:2024-04-09
公开(公告)号:CN111370318B
主分类号:H01L21/50
分类号:H01L21/50
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.09#授权;2021.12.21#实质审查的生效;2020.07.03#公开
摘要:本发明提供了一种半导体消除内应力的方法,所述方法包括以下步骤:1将半导体元件的一面固定在陶瓷板的内表面上,并在半导体元件的另一面覆盖保护膜;2对陶瓷板的外表面进行第一次热处理,使陶瓷板的外表面经过10~30分钟升温至130~160℃;然后,对陶瓷板的外表面进行第二次热处理,使陶瓷板的外表面经过5~10分钟升温至190~210℃;3对步骤2中的陶瓷板外表面进行降温,降温速度为3~7℃min,至陶瓷板外表面的温度降至常温;4去除半导体元件表面覆盖的保护膜。本发明的方法在陶瓷板的背面进行热处理,正面的半导体的内应力得到了降低或者消除的效果,本发明的方法可以和制备半导体的工艺联用,在短时间内大批处理半导体元件,提高了生产效率。
主权项:1.一种半导体消除内应力的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:1将半导体元件的一面固定在陶瓷板的内表面上,并在半导体元件的另一面覆盖保护膜;2对陶瓷板的外表面进行第一次热处理,使陶瓷板的外表面经过10~30分钟升温至130~160℃;然后,对陶瓷板的外表面进行第二次热处理,使陶瓷板的外表面经过5~10分钟升温至190~210℃;3对步骤2中的陶瓷板外表面进行降温,降温速度为3~7℃min,至陶瓷板外表面的温度降至常温;4去除半导体元件表面覆盖的保护膜,其中,所述步骤2中,第一次热处理和第二次热处理均采用卤素灯照射陶瓷板的外表面。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 东莞新科技术研究开发有限公司 一种半导体消除内应力的方法
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