申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2022-03-04

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN114845460B

主分类号：H05H7/12

分类号：H05H7/12;H05H7/08

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.08.19#实质审查的生效;2022.08.02#公开

摘要：一种基于密度激波结构的硬X射线源的增强系统，包括直线型气体喷嘴、刀片模块、刀片固定底座、支撑架、五维移动平台，本发明能够有效产生多级密度激波结构来增强betatron硬X射线源的辐射，具有操作简单、结构紧凑、产生多级密度激波分布、稳定性好的优点。本发明涉及超短超强激光等离子体相互作用领域，特别是激光尾波场电子加速驱动的高亮度硬X射线的过程，可用于产生多级密度激波结构，实现电子在密度下降沿过程中的多次注入，同时在密度激波结构中驱动激光与电子束的不同轴传播，可加剧电子横向振荡来增强硬X射线辐射。

主权项：1.一种基于密度激波结构的硬X射线源的增强系统，其特征在于，包括：直线型气体喷嘴（1）、刀片模块（2）、刀片固定底座（3）、两个支撑架（4）和五维移动平台（5）；所述的刀片模块（2）包括至少三片刀片，每个刀片的刀锋部均设有通光孔，且其中二片刀片的通光孔为圆形，其余均为方形；所述的刀片固定底座（3）为长方体，中部设有刀片槽，该刀片槽内呈凹凸结构分布，供所述的刀片插入固定，使激光依次经圆形通光孔、N个方形通光孔，最后经圆形通光孔传播，N≥1；所述的支撑架（4）为长方体，两个支撑架（4）并列分开固定，一端水平固定于所述的五维移动平台（5）上，另一端延伸出五维移动平台（5）且与刀片固定底座（3）相固定；所述的直线型气体喷嘴（1）位于所述的刀片槽的上方，且该直线型气体喷嘴（1）的下边缘与所述的刀片的刀锋位置相距不大于1cm；所述两个支撑架（4）长8cm，宽为1cm，距离支撑架4两端1cm位置处有两个内径为6mm的带螺纹圆孔；所述两个支撑架（4）并列分开放置，其内边缘相距2cm，支撑架（4）一端有4cm长度通过平头的内六螺丝固定于五维移动平台（5）上，支撑架4另一端有4cm长度延伸出五维移动平台（5）的外部，通过平头的内六螺丝与刀片固定底座（3）相固定，以避免直线型气体喷嘴（1）喷出气流被五维移动平台（5）所阻挡而形成气体堆积。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 一种基于密度激波结构的硬X射线源的增强系统

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