申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2022-04-06

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN114965369B

主分类号：G01N21/47

分类号：G01N21/47;G01N21/01

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.09.16#实质审查的生效;2022.08.30#公开

摘要：一种掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法，该装置采用双方位角斜入射和垂直入射照明，本发明通过反射物镜高效收集不同散射角下的表面缺陷散射信号，提高缺陷探测灵敏度。本发明通过分别采集斜入射照明下的缺陷散射图像和垂直照明下的缺陷散射图像，比较表面缺陷在不同照明方式下的散射信号差异可以判别缺陷的类型，提高检测准确性。

主权项：1.一种掩模基板表面微纳缺陷检测装置，其特征在于，包括光源（1）、偏振调节模块（2）、第一分束器（3）、第一光开关（4）、第二分束器（5）、第一聚焦透镜（6）、第一反射镜（7）、第二反射镜（8）、第三反射镜（9）、第二聚焦透镜（10）、第四反射镜（11）、第五反射镜（12）、第二光开关（13）、第六反射镜（14）、第七反射镜（15）、第三聚焦透镜（16）、第八反射镜（17）、第九反射镜（18）、反射物镜（19）、带通滤光片（20）、相机（21）、XY位移台（22）、样品（23）和计算机（24），所述的样品（23）置于所述的XY位移台（22）上，所述的XY位移台（22）为中空结构，不遮挡从样品背面垂直入射的照明光；沿所述的光源（1）出射的照明光方向依次是所述的偏振调节模块（2）、第一分束器（3）、第一光开关（4）、第二分束器（5）、第一聚焦透镜（6）、第一反射镜（7）和第二反射镜（8）；所述的光源（1）发出的照明光经过所述的偏振调节模块（2）后转变为p偏振光；所述的第一分束器（3）将照明光分为强度相等的透射照明光和反射照明光，所述的透射照明光通过所述的第一光开关（4）后被所述的第二分束器（5）分为强度相等的两束照明光，透过第二分束器（5）的照明光被所述的第一聚焦透镜（6）聚焦后，经所述的第一反射镜（7）和第二反射镜（8）转折，斜入射到所述的样品（23）的待测表面；经所述的第二分束器（5）的反射照明光依次通过所述的第三反射镜（9）、第二聚焦透镜（10）、第四反射镜（11）和第五反射镜（12），斜入射到所述的样品（23）的待测表面；所述的反射照明光依次通过所述的第二光开关（13）、第六反射镜（14）、第七反射镜（15）、第三聚焦透镜（16）、第八反射镜（17）和第九反射镜（18）后，从所述的样品（23）的背面垂直入射到样品（23）的待测表面；两束斜入射照明光斑和背面垂直入射照明光斑在所述的样品（23）的待测表面重合；沿所述的样品（23）的待测表面的法线方向依次是所述的反射物镜（19）、带通滤光片（20）和相机（21）；所述的样品（23）的待测表面的缺陷对照明光产生散射，散射光被所述的反射物镜（19）收集后通过所述的带通滤光片（20），在所述的相机（21）上成像；所述的带通滤光片（20）滤除照明光波段以外其它波长的杂光；所述的计算机（24）分别与所述的相机（21）的输出端、XY位移台（22）的控制端连接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法

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