申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2021-09-23

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN113899738B

主分类号：G01N21/84

分类号：G01N21/84;G01N21/01

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.01.25#实质审查的生效;2022.01.07#公开

摘要：单层及多层微纳结构图形试样跟踪装置及方法,装置包括照明模块、线阵CCD、计算机、光阑、分光棱镜、面阵CCD、激光器、分光元件、成像透镜、反射镜、扩束镜、衰减片、12波片、偏振分光棱镜、14波片等，将微纳结构图形试样放置于位移台上，通过粗调电机使得微纳结构图形试样表面在面阵CCD中清晰成像，通过线阵CCD采集的激光光斑直径数据得出当前位置的离焦量，控制压电陶瓷实时自动跟踪。利用线阵CCD中高精度像素使得激光光斑的微小变化即可被检测，激光光斑经过物镜与成像系统进行了二次放大使得光斑的变化率变大，系统灵敏度高。本发明根据线阵CCD高速实时测量光斑直径得出离焦距离而非通过光斑能量判断。

主权项：1.单层及多层微纳结构图形试样跟踪装置，其特征在于，包括照明模块1、线阵CCD2、计算机3、第一光阑4、分光元件5、第二光阑6、面阵CCD7、激光器8、分光棱镜9、成像透镜10、第三反射镜11、扩束镜12、衰减片13、12波片14、第一反射镜15、偏振分光棱镜16、14波片17、第二反射镜18、粗调电机19、压电陶瓷20、物镜21、供微纳结构图形试样22放置的位移台23和控制器24，所述照明模块1发出白光依次经过所述分光棱镜9和第一反射镜15，经偏振分光棱镜16反射后，经14波片17、第二反射镜18、物镜21，到达微纳结构图形试样22，然后沿原光路返回到达分光棱镜9反射，到成像透镜10、第三反射镜11、经过分光元件5，分别到达线阵CCD2和面阵CCD7；激光器8发出激光，经过扩束镜12、衰减片13、12波片14、偏振分光棱镜16、14波片17、第二反射镜18、物镜21，到达微纳结构图形试样22，然后沿原光路返回到达偏振分光棱镜16反射，到第一反射镜15、分光棱镜9反射，到成像透镜10、第三反射镜11，经过分光元件5，分别到达线阵CCD2和面阵CCD7；所述的线阵CCD2到成像透镜10的距离，与所述的面阵CCD7到成像透镜10的距离均等于该成像透镜10的焦距，且所述的线阵CCD2到分光元件5的距离与面阵CCD7到分光元件5的距离相同；所述的面阵CCD7探测的最大光斑直径为dmax,最小光斑直径为dmin；所述的线阵CCD2的分辨率为n×1，所述的面阵CCD7的分辨率为p×q，且p≥n，q≥n；入射光经所述的物镜21汇聚后，照射在微纳结构图形试样22上，经该微纳结构图形试样22反射，反射光经成像透镜10成像、经分光元件5分束后，分别由所述的线阵CCD2和面阵CCD7清晰成像，且所述的物镜21与微纳结构图形试样22的距离能确保所述的面阵CCD7的光斑直径

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权利要求：

百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 单层及多层微纳结构图形试样跟踪装置及方法

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