申请/专利权人:铠侠股份有限公司
申请日:2019-07-04
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN111312612B
主分类号:H01L21/67
分类号:H01L21/67
优先权:["20181211 JP 2018-231736"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.12#授权;2022.02.15#著录事项变更;2020.07.14#实质审查的生效;2020.06.19#公开
摘要:本发明涉及一种基板处理装置及基板处理方法。根据一实施方式,基板处理装置具备对包含金属离子且显示酸性的第1液体进行稀释的稀释部。所述装置同时具备使通过所述稀释部稀释前或稀释后的所述第1液体的pH值变化的pH值变化部。所述装置还具备使用通过所述稀释部稀释,并通过所述pH值变化部使pH值变化后的所述第1液体,来对基板进行处理的基板处理部。
主权项:1.一种基板处理装置,其具备:稀释部,对包含金属离子且显示酸性的第1液体进行稀释;pH值变化部,使通过所述稀释部稀释前或稀释后的所述第1液体的pH值变化;基板处理部,使用通过所述稀释部稀释,并通过所述pH值变化部使pH值变化后的所述第1液体来对基板进行处理;第1流路,设置于所述稀释部及所述pH值变化部之间,供所述第1液体流动;以及第2流路,排出所述第1液体。
全文数据:
权利要求:
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