申请/专利权人：MKS仪器有限公司

申请日：2019-07-01

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN112655068B

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32

优先权：["20180713 US 16/035551"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2021.05.04#实质审查的生效;2021.04.13#公开

摘要：提供一种等离子处理系统的等离子室。等离子室限定等离子通道，该等离子通道具有沿等离子通道的长度相反设置的第一侧和第二侧。等离子室包括由介电材料构成的第一区段和第二区段，以及将第一区段和第二区段在第一区段的第一凸缘与第二区段的第三凸缘之间和在第一区段的第二凸缘与第二区段的第四凸缘之间处结合在一起的接口。

主权项：1.一种等离子处理系统的等离子室，所述等离子室限定等离子通道，所述等离子通道具有沿所述等离子通道的长度相反设置的第一侧和第二侧，所述等离子室包括：第一介电区段，所述第一介电区段由介电材料构成，所述第一介电区段具有i第一凸缘，所述第一凸缘沿所述等离子通道的第一侧定位且以第一宽度延伸超过所述第一侧，以及ii第二凸缘，所述第二凸缘沿所述等离子通道的第二侧定位且以第二宽度延伸超过所述第二侧；第二介电区段，所述第二介电区段由所述介电材料构成，所述第二介电区段具有i第三凸缘，所述第三凸缘沿所述等离子通道的第一侧定位且以所述第一宽度延伸超过所述第一侧，以及ii第四凸缘，所述第四凸缘沿所述等离子通道的第二侧定位且以所述第二宽度延伸超过所述第二侧；以及接口，所述接口将所述第一介电区段和所述第二介电区段在所述第一凸缘与所述第三凸缘之间和在所述第二凸缘与所述第四凸缘之间处结合在一起，以在所述第一凸缘与所述第三凸缘之间、以及在所述第二凸缘与所述第四凸缘之间产生气密密封。

全文数据：

权利要求：

百度查询： MKS仪器有限公司 具有带有改进的等离子抗性的介电等离子室的等离子源

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