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【发明授权】耐蚀性构件_株式会社力森诺科_202180003549.4 

申请/专利权人:株式会社力森诺科

申请日:2021-02-24

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN113924382B

主分类号:C23C14/24

分类号:C23C14/24;C23C14/06;C23C14/58;G01N23/207

优先权:["20200311 JP 2020-042384"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权;2023.05.23#著录事项变更;2023.05.23#专利申请权的转移;2022.01.28#实质审查的生效;2022.01.11#公开

摘要:提供耐蚀性被膜即使经受热履历也难以从基材剥离的耐蚀性构件。一种耐蚀性构件,具备金属制基材10和形成于基材10的表面的耐蚀性被膜30。耐蚀性被膜30是从基材10侧依次层叠氟化镁层31和氟化铝层32而得到的。氟化铝层32具有所含有的氟化铝为晶质的第一晶质区域32A和第二晶质区域32B。第一晶质区域32A是在通过照射束径为10nm以上且20nm以下的电子束而得到的电子束衍射像中观察到具有规则性的成列衍射斑的区域。第二晶质区域32B是在通过照射上述电子束而得到的电子束衍射像中观察到多个衍射斑但未观察到具有规则性的成列衍射斑的区域。

主权项:1.一种耐蚀性构件,具备金属制的基材和形成于所述基材的表面的耐蚀性被膜,所述耐蚀性被膜是从所述基材侧起依次层叠含有氟化镁的氟化镁层和含有氟化铝的氟化铝层而得到的,所述氟化铝层具有所含有的氟化铝为晶质的第一晶质区域和第二晶质区域,所述第一晶质区域是在通过照射束径为10nm以上且20nm以下的电子束而得到的电子束衍射像中观测到具有规则性的成列衍射斑的区域,所述第二晶质区域是在通过照射所述电子束而得到的电子束衍射像中观测到多个衍射斑,但未观测到具有规则性的成列衍射斑的区域,所述具有规则性的成列衍射斑是指:衍射斑的多个列被配置成以位于电子束衍射像的中心的衍射斑作为点对称的对称中心而形成点对称图形,构成电子束衍射像。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社力森诺科 耐蚀性构件

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