申请/专利权人:贵州铜仁旭晶光电科技有限公司
申请日:2023-09-14
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN220773287U
主分类号:G02B5/28
分类号:G02B5/28
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.12#授权
摘要:本实用新型公开一种高宽带IR滤光片,其包括沉积于基底层上的薄膜周期结构,薄膜周期结构包括相互交替的Ta2O5层与SiO2层;薄膜周期结构的膜系结构为GaLbHaL^P;其中,G为薄膜周期结构的初始系数,L为SiO2层,aL表示SiO2层的膜层厚度为a个基本厚度,H为Ta2O5层,bH表示Ta2O5层的膜层厚度为b个基本厚度,P为周期数。本实用新型利用光波干涉原理,通过膜系设计,采用高低折射率材料相互交替形成薄膜周期结构,使薄膜周期结构等效折射率接近于基底层折射率,进而使光线于空气‑薄膜周期结构、薄膜周期结构‑基底层两个界面反射,于工作波段具有良好的透光率。
主权项:1.一种高宽带IR滤光片,其特征在于,所述滤光片包括沉积于基底层上的薄膜周期结构,所述薄膜周期结构包括相互交替的Ta2O5层与SiO2层;所述薄膜周期结构的膜系结构为GaLbHaL^P;其中,G为所述薄膜周期结构的初始系数,L为所述SiO2层,aL表示所述SiO2层的膜层厚度为a个基本厚度,H为所述Ta2O5层,bH表示所述Ta2O5层的膜层厚度为b个基本厚度,P为周期数。
全文数据:
权利要求:
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