申请/专利权人：天目山实验室

申请日：2023-12-21

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117907281A

主分类号：G01N21/45

分类号：G01N21/45;G01N9/24;G01N9/36

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本发明公开了一种高空间分辨率的背景纹影光学测量系统，包括凹面反射镜、点光源、相机和图像采集系统，所述凹面反射镜上带有随机分布的散点图案，所述点光源和相机设于距离所述凹面反射镜法线光轴二倍焦距处的两侧，所述相机与凹面反射镜之间设有待测流场，所述图像采集系统与所述相机连接，用于获取相机拍摄的凹面反射镜上经待测流场后的散点图案；本发明还公开了一种高空间分辨率的背景纹影光学测量系统方法，本发明有效避免了传统背景图案漫反射带来的光线发散问题，显著降低了传统背景纹影测量技术在待测流场处失焦造成的空间分辨率损失，弥补了传统背景纹影方法的不足。

主权项：1.一种高空间分辨率的背景纹影光学测量系统，其特征在于，包括凹面反射镜、点光源、相机和图像采集系统，所述凹面反射镜上带有随机分布的散点图案，所述点光源和相机设于距离所述凹面反射镜法线光轴二倍焦距处的两侧，所述相机与凹面反射镜之间设有待测流场，所述图像采集系统与所述相机连接，用于获取相机拍摄的凹面反射镜上经待测流场后的散点图案。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 天目山实验室 高空间分辨率的背景纹影光学测量系统及测量方法

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