申请/专利权人：苏州普伊特自动化系统有限公司

申请日：2024-03-07

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117913001A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/677

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本说明书实施例提供一种链式清洗设备控制系统和方法，该系统包括：输送线调控部件、补液部件、机械臂、温控部件、吹扫调控装置和控制组件；其中，控制组件被配置为：基于待清洗光伏硅片的清洁特征，确定清洗槽分布参数并生成第一补液指令，将第一补液指令发送至补液部件，清洗槽分布参数包括清洗槽数量、各清洗槽对应的子槽数量以及各子槽中的药液类型中至少一种；基于各子槽的药液温度数据，确定至少一个清洗槽的最后一个子槽上方的吹扫装置对应的温调吹扫参数，并生成吹扫控制指令，将吹扫控制指令发送至吹扫调控装置。

主权项：1.一种链式清洗设备控制系统，其特征在于，包括：输送线调控部件、补液部件、机械臂、温控部件、吹扫调控装置和控制组件；所述输送线调控部件被配置为基于传动部件，控制链式输送线输送承载光伏硅片的花篮的输送间隔；所述补液部件被配置为基于多个补液管和补液阀门，向对应的清洗槽补充药液，所述清洗槽至少包括一个子槽；所述机械臂部署于所述清洗槽的上方，所述机械臂被配置为基于固定时间间隔将所述花篮下压至所述清洗槽内的所述药液中；所述温控部件被配置为控制所述药液的温度，所述温控部件包括加热膜，所述加热膜部署于所述清洗槽的侧壁及底部；所述吹扫调控装置被配置为控制吹扫装置的吹扫参数，所述吹扫参数包括吹扫气流强度、吹扫温度中至少一种；所述吹扫装置部署于至少一个所述清洗槽的上方，所述吹扫装置被配置为对所述光伏硅片进行吹扫；所述控制组件至少包括处理器，所述控制组件被配置为：基于待清洗光伏硅片的清洁特征，确定清洗槽分布参数并生成第一补液指令，将所述第一补液指令发送至所述补液部件，所述清洗槽分布参数包括清洗槽数量、各清洗槽对应的子槽数量以及各子槽中的药液类型中至少一种；基于各子槽的药液温度数据，确定至少一个所述清洗槽的最后一个子槽上方的所述吹扫装置对应的温调吹扫参数，并生成吹扫控制指令，将所述吹扫控制指令发送至所述吹扫调控装置。

全文数据：

权利要求：

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